Karakteristik depo chimik vapè
I) Gen anpil kalite depo: fim metal, ki pa metal fim ka depoze, ak milti-eleman fim alyaj kapab tou dwe prepare jan sa nesesè, kòm byen ke seramik oswa kouch konpoze.
2) se reyaksyon a CVD te pote soti nan presyon nòmal oswa vakyòm ki ba, ak kouch la gen bon pwopriyete diffractive. Li ka egzakteman menm jan plak twou yo byen fon ak twou amann nan sifas la ak fòm konplèks oswa pyès la.
3) Ka penti fenèt mens ak segondè pite, bon Compact, ki ba estrès rezidyèl, ak bon kristaliz ka jwenn. Akòz mityèl difizyon nan reyaksyon gaz la, pwodwi a reyaksyon ak substra a, ka yon fim ak bon Adhesion jwenn, ki trè enpòtan pou fim amelyorasyon sifas tankou pasivasyon sifas, rezistans korozyon ak rezistans mete.
4) Paske tanperati a nan kwasans lan fim mens pi ba anpil pase pwen nan k ap fonn nan materyèl nan fim, ka yon kouch fim ak pite segondè, epi kristalizasyon konplè ka jwenn, ki se nesesè pou kèk semi-conducteurs fim kouch.
5) Pa ajiste paramèt yo depozisyon, ka konpozisyon chimik la, mòfolojik, estrikti kristal ak gwosè grenn nan kouch la dwe efektivman kontwole.
6) ekipman an se senp epi fasil yo opere epi kenbe.
7) Tanperati reyaksyon an twò wo, anjeneral nan 850 ~ 1100 ° C. Materyèl substra Anpil pa ka reziste tanperati a segondè nan kardyovaskulèr. Plasma oswa lazè ede teknoloji ka diminye tanperati a depozisyon.